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掩膜版|保護(hù)膜表面顆粒物快速檢測(cè)系統(tǒng)

更新時(shí)間:2025-06-03
產(chǎn)品型號(hào):FM-PR-PDS
所屬分類(lèi):可視化顆粒檢測(cè)
描述:掩膜版|保護(hù)膜表面顆粒物快速檢測(cè)系統(tǒng)(PDS)為掩膜版、掩膜版保護(hù)膜以及基板(襯底)制造工藝,提供高通量的表面顆粒污染檢測(cè)服務(wù)。

該系統(tǒng)對(duì)粒徑大于 0.1µm 的顆粒具有高靈敏度,是一種高效且提供服務(wù)的選擇。它能以手動(dòng)或自動(dòng)的操作方式,以及較低的維護(hù)成本,取代傳統(tǒng)的顆粒檢測(cè)系統(tǒng)。
詳情介紹

Fastmicro 掩膜版|保護(hù)膜表面顆粒物快速檢測(cè)系統(tǒng)(PDS)


掩膜版|保護(hù)膜表面顆粒物快速檢測(cè)系統(tǒng)(PDS)為掩膜版、掩膜版保護(hù)膜以及基板(襯底)制造工藝,提供高通量的表面顆粒污染檢測(cè)服務(wù)。

該系統(tǒng)對(duì)粒徑大于 0.1µm 的顆粒具有高靈敏度,是一種高效且提供服務(wù)的選擇。它能以手動(dòng)或自動(dòng)的操作方式,以及較低的維護(hù)成本,取代傳統(tǒng)的顆粒檢測(cè)系統(tǒng)。


產(chǎn)品特點(diǎn):

  • 高通量檢測(cè):每小時(shí)可檢測(cè) 400 片晶圓(WPH)

  • 數(shù)據(jù)輸出:根據(jù) ISO 14644-9 標(biāo)準(zhǔn),在用戶界面和 PDF 報(bào)告輸出 SCP 等級(jí)

  • 正反兩面檢測(cè):?jiǎn)未螠y(cè)量中完成正反兩面檢測(cè)(無(wú)需翻轉(zhuǎn))

  • 檢測(cè)范圍:能夠檢測(cè) ≥ 0.1µm 聚苯乙烯乳膠(PSL)等效顆粒(經(jīng) NIST 認(rèn)證)


生產(chǎn)過(guò)程中的一致性測(cè)量

快速: 能在數(shù)秒內(nèi)完成大面積成像

定量: 適用于生產(chǎn)和研發(fā)環(huán)境中的質(zhì)量鑒定與監(jiān)測(cè)

操作簡(jiǎn)便: 不受操作人員影響,自動(dòng)化,潔凈抓取方式

精準(zhǔn): 高分辨率測(cè)量(數(shù)量、位置、尺寸)

一致性: 每次測(cè)量都保持客觀、穩(wěn)定

高通量: 能在工藝時(shí)間窗口內(nèi)得出結(jié)果



掩膜版|保護(hù)膜表面顆粒物快速檢測(cè)系統(tǒng)

FM-PDS: 直接檢測(cè)表面顆粒

該系統(tǒng)可為晶圓制造工藝、下一代化合物半導(dǎo)體以及優(yōu)良封裝應(yīng) 用,提供高通量的表面顆粒污染檢測(cè)服務(wù)。 

該系統(tǒng)對(duì)粒徑大于 0.1μm 的顆粒具有高靈敏度,是一種高 效且提供服務(wù)的選擇。

它能以手動(dòng)或自動(dòng)的操作方式,以及 較低的維護(hù)成本,取代傳統(tǒng)的顆粒檢測(cè)系統(tǒng)。 

對(duì)于下一代半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用, PDS 系統(tǒng)具備的屬性:雙面同 時(shí)掃描(選配);

靜態(tài)視場(chǎng)掃描(在圖像采集過(guò)程中無(wú)需移動(dòng)產(chǎn)品)。

多功能模塊化平臺(tái)

系統(tǒng)專(zhuān)為直接測(cè)量 DUV(深紫外)和 EUV(極紫外)掩膜版保 護(hù)膜、掩模版或其他類(lèi)型基板表面的顆粒污染水平而研發(fā)。


?該系統(tǒng)可根據(jù)需要客戶需求進(jìn)行定制和擴(kuò)展。測(cè)量模塊也可為系 統(tǒng)集成商和原始設(shè)備制造商(OEM)提供貼牌服務(wù)


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